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隨著高分子材料工業的發展，塑料、橡膠、纖維等合成高分子材料越來越廣泛的用于建筑、化工、軍事及交通等領域。但大部分高分子材料均易于燃燒，在很多應用領域中，需要添加阻燃劑以降低其燃燒性及燃燒速度，從而達到預防火災、減緩火勢蔓延的密度。近年來，高分子阻燃技術受到性的關注阻燃劑以及成為*于增塑劑的第二大高分子材料用助劑。

作為重要的無極阻燃劑產品，氫氧化鋁和氫氧化鎂由于環境友好、阻燃性強而倍受人們青睞。與氫氧化鋁相比，氫氧化鎂具有熱穩定性高、成炭效率高和降酸能力強等特點?？梢詮V泛的應用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不飽和樹脂等高分子材料的阻燃和消煙。


然而，要獲得超細的氫氧化鎂助燃劑混懸液就必須使用高品質的分散設備，傳統的分散設備，一方面無法將氫氧化鎂漿料進一步細化，另一方分散效果不佳。上海SGN結合多家阻燃劑廠家，可知，采用SGNGMSD2000系列研磨分散機對氫氧化鎂漿料進行進一步的研磨和分散，粒徑更小，分散更均勻。

氫氧化鎂阻燃劑分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備，先研磨后分散機，因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中，會形成二級團聚體，軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。SGN研磨分散機二級工作組，轉速高達14000rpm，剪切力強，分散更*。

GMSD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

GMSD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

D一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。      

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

  
的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

GMSD2000 三級乳化機參數表

SGN高剪切乳化機選型表：

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